Lithography có nghĩa gốc là in thạch bản. Trong lĩnh vực chế tạo chip, từ này thường chỉ quang khắc (photolithography) — quá trình dùng ánh sáng để chuyển mẫu thiết kế mạch lên một lớp vật liệu nhạy sáng trên bề mặt wafer.
(Nguồn: https://inc42.com/glossary/immersion-lithography/)
Có thể hình dung quang khắc giống như “in bản thiết kế siêu nhỏ” lên tấm silicon, để xác định nơi sẽ tạo các chi tiết của mạch điện.
Quy trình cơ bản gồm:
- Phủ lớp nhạy sáng bằng cách phủ một lớp vật liệu gọi là photoresist lên wafer.
- Chiếu mẫu bằng ánh sáng, khi đó hệ thống quang học đưa hình ảnh từ mặt nạ chứa mẫu thiết kế (photomask) lên lớp nhạy sáng.
- Dùng dung dịch để loại bỏ những phần nhất định của lớp nhạy sáng, tạo ra mẫu cần thiết.
- Xử lý lớp vật liệu bên dưới, dựa vào mẫu đó để khắc, đưa tạp chất vào hoặc thực hiện các bước chế tạo khác.
Quang khắc chủ yếu tạo mẫu; công đoạn khắc vật liệu (etching) là một bước riêng. Quy trình tạo mẫu và xử lý được lặp lại nhiều lần để hình thành các lớp cấu trúc của chip.
(Nguồn: https://static.horiba.com/fileadmin/Horiba/Application/Lithography/Lithography_Process.png )
Không phải mọi kỹ thuật lithography đều dùng ánh sáng; chẳng hạn, electron-beam lithography dùng chùm electron để tạo mẫu.
Tài liệu đọc thêm và tham khảo
- https://inc42.com/glossary/immersion-lithography/
- https://www.asml.com/en/technology/lithography-principles
- https://www.synopsys.com/glossary/what-is-lithography.html
- https://www.horiba.com/int/semiconductor/process/lithography/
Không có nhận xét nào:
Đăng nhận xét