Extreme Ultraviolet (EUV), tức tia cực tím cực ngắn, là bức xạ điện từ có bước sóng khoảng 10–124 nm, nằm giữa tia cực tím thông thường và tia X mềm. Trong công nghiệp, cụm từ này thường dùng để chỉ quang khắc EUV (EUV lithography), công nghệ dùng ánh sáng bước sóng 13,5 nm để in mạch lên chip bán dẫn.
Vì sao EUV quan trọng?
Trong quang khắc, bước sóng càng ngắn thì chi tiết in được càng nhỏ. Công nghệ cũ (DUV) dùng ánh sáng 193 nm, nên để làm chip tiên tiến phải chiếu nhiều lần (multi-patterning), vừa tốn kém vừa dễ lỗi. EUV ngắn hơn khoảng 14 lần, cho phép in các cấu trúc rất nhỏ chỉ trong một lần chiếu. Đây là nền tảng để sản xuất chip ở các tiến trình 7 nm, 5 nm, 3 nm và nhỏ hơn, dùng trong điện thoại, máy tính và chip AI.
Cách tạo ra ánh sáng EUV
Ánh sáng EUV không có sẵn từ đèn thông thường. Máy bắn laser CO₂ công suất lớn vào những giọt thiếc nóng chảy cực nhỏ, khoảng 50.000 giọt mỗi giây. Thiếc bị biến thành plasma nóng hàng trăm nghìn độ và phát ra ánh sáng 13,5 nm.
Ai làm ra máy EUV?
Công ty ASML (Hà Lan) là nhà sản xuất máy quang khắc EUV thương mại duy nhất trên thế giới. Mỗi máy có kích thước bằng một chiếc xe buýt và giá hàng trăm triệu USD. Các khách hàng chính là TSMC, Samsung và Intel. Do tầm quan trọng chiến lược, máy EUV cũng là đối tượng của các biện pháp kiểm soát xuất khẩu.
Ngoài sản xuất chip, EUV còn được dùng trong thiên văn học, ví dụ để quan sát vành nhật hoa của Mặt Trời, và trong nghiên cứu vật lý.
Tài liệu tham khảo và đọc thêm
- https://www.universitywafer.com/euv.html
- https://research.ibm.com/blog/what-is-euv-lithography
Không có nhận xét nào:
Đăng nhận xét